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发布时间:05-01

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前驱体是半导体薄膜沉积工艺的主要原材料。 IC 前驱体可以概括为:应用于半导体生产制造工艺,携有目标元素,呈气态或易挥发液态,具备化学热稳定性,同时具备相应的反应活性或物理性能的一类物质。在包括薄膜、光刻、互连、掺杂技术等的半导体制造过程中,前驱体主要应用于气相沉积(包括 PVD、 CVD 及 ALD),以形成符合半导体制造要求的各类薄膜层。 半导体前驱体可分为: TEOS(正硅酸乙酯)、硼磷(B、 P)掺杂剂、金属前驱体、高 k 前驱体、低 k 前驱体等。图片:茹月峰提供手机在线电影网茹月峰把这极具情趣的一幕永久的定格在了玉雕工艺品上,显示了文人的风雅,表达了悠远的意境,不仅展示了高超的玉雕技术,还蕴含了深刻的哲理性。

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